Tisarius-D

Ti:saphir laser frequenzverdoppelt single frequency durchstimmbar CW

Tisarius-D

Single Frequency Lasersystem bestehend aus
Ti:Saphir Laser und Frequenzverdoppler

Wellenlänge 350-550 nm / 695-1100 nm
Ausgangsleistung 100 - 800 mW / > 1.9 W

                                     (@ 12 W Pumpleistung)
Scanbereich             5 / 18 / 25 GHz ( >40 GHz auf Anfrage)
Linienbreite              < 10 kHz/s (1kHz/0,1s) rms

< 5 kHz/s (0,5 kHz/0,1s) rms
Mode TEM00

"Tisarius-D" ist ein neues leistungsstarkes Lasersystem, welches in der Lage ist Einfrequenzstrahlung im UV bis grünen Spektralbereich zu emittieren. Das System beinhaltet einen Ti:Saphir-Laser (700-1050 nm) und einen Frequenzdoppler (350-550 nm). Durch das Pumpen mit einem Standard DPSS oder Faserlaser mit einer Leistung von 5 - 12W liefert der Tisarius-D 100 - 800 mW an Einfrequenzstrahlung mit einer Linienbreite von <10 kHz (1 s rms) im 350 - 550 nm Bereich.

Frequenzverdoppler gepumpt mit Ti:Saphir Laser single frequency durchstimmbar

Dieses abstimmbare Lasersystem der Spitzenklasse verfügt über die höchste Frequenzverdoppluns-Effizienz bei gleichzeitig rekordverdächtigen ultraschmalen Linie im UV bis grünen Spektralbereich. Die elektronische Steuerung des Lasers und des Frequenzverdopplers verfügt über eine einzigartige Auto-Relock Funktion, die es ermöglicht Tisarius-D zuverlässig und stabil selbst bei erheblichen äußeren Störungen zu betreiben.

Ti:Saphir Laser Anwendung optische Pinzette, Lithographie, Spektroskopie

Anwendungsbeispiele:

Die wichtigsten Anwendungsgebiete dieses Systems sind Atom / Molekül-Kühlung, optische Pinzette, "in situ" Untersuchung von physikalischer Gasphasenabscheidung (physical vapour deposition), Erzeugung von Nanostrukturen, atomare Lithographie, Gasanalyse, neue hochpräzise spektroskopische Experimente, Spurenelementenerkennung usw.

Tisarius-D ist bestens für Atomkühlung geeignet. Insbesondere kühlt Tisarius-D sehr effizient solche Atome wie Ca (397, 423, 442.7 nm), Mg (383 nm), Pb (368.3 nm), Rb (421 nm), Sr (422, 481 nm), Yb (369.5 nm), Er (401 nm), Tm (410-420 nm) und viele andere.

Im Bereich der physikalischen Gasphasenabscheidung bietet das Tisarius-D System eine präzise Kontrolle der Ablagerung von Materialien wie Aluminium (394nm), Titan (391nm), Yttrium (408nm), Wolfram (385nm), Gallium (403nm) und anderer.